磁性材料水浸超声系统 磁片磁环等磁性材料内部缺陷分析

磁性材料水浸超声系统 磁片磁环等磁性材料内部缺陷分析

产品用途:

磁片、磁环等磁性材料内部缺陷分析

 

详细介绍

主要特点及技术指标:

l 全水浸/局部水浸

l A(点/线聚焦),C(横向扫描实时成像)

l 行程:X×Y×Z=400×300×200mm(可定制)

l 扫查步长:0.2-5mm可调

l 根据工件的大小和扫查方式不同,检测效率1-20件/分钟

l 四通道,采集卡频率范围0.5MHz~25MHz

l 扫查速度:0-300mm/s

l 重复定位精度:X/Y轴:±0.1mm/1000mm;Z轴:±0.025mm/300mm

l 水槽尺寸700×500×300mm

l 外观尺寸:1300×800×1700mm;不含操作台

 

 

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